isishape HiperEtch®11S是含氟化物的蚀刻膏，用于在室温下蚀刻ITO玻璃上的SiO2层，同时可为网版印刷提供优越的条件。

产品特点

• 有选择性地在ITO上蚀刻SiO2 ，不会破坏ITO

• 快速蚀刻工艺： 2 - 3nm/s

• 易于清洗，不需要有机洗涤剂

• 冲洗剂的有机和氟化成分低

• 产品操作安全性高：

           荧光色 (使用UV光易检测痕迹)

           粘性产品(无泄漏、无飞溅)

• 低成本                            

特征

粘度：8-25 Pas (23°C, D=25s-1)

颜色: 粉红（pink）

蚀刻工艺

不同厚度的SiO2 层在室温下 蚀刻大约 2-5 分钟，处理时间越长说明线越宽。